멤스룩스 전주기 역량

기술

멤스룩스는 일반적인 반도체 리소그래피가 아닌, 3D 디퓨저 리소그래피(Diffuser Lithography) 기법을 활용하여 기존 기술로 제조 불가능했던 다양한 초정밀 3D 마이크로패턴을 니즈에 맞게 디자인할 수 있습니다.

멤스룩스가 독자적으로 보유하고 있는 반도체 기반의 마이크로전자기계시스템 (MEMS) 공정 기술은 KAIST에서 개발된 것으로, 15년이라는 시간 동안 세상에 없던 독특한 3D 미세구조 패턴을 만드는 데 사용되어왔습니다.

이러한 3D 미세 구조는 수많은 광학 부품에 전례 없는 성능을 가능케 하는 필수적인 역할을 합니다

3D 디퓨저 리소그래피(Diffuser Lithography)란,

기존의 리소그래피 공정에서 UV 광원과 포토마스크 사이에 광 확산 특성을 가지는 광 디퓨저 시트(optical diffuser sheet)를 의도적으로 삽입하여 다양한 3D 미세구조를 보다 정밀하게 만드는 기술입니다.

여러 가지 종류의 광 디퓨저를 사용하거나 노출량을 조절함으로써 미세구조의 형태를 자유롭게 변화시킬 수 있기에 3D 미세구조의 형태를 쉽게 조절할 수 있습니다. 또한, 전문 광학 시뮬레이션 프로그램을 이용해 3차원 마이크로 광학 패턴을 검증하고 균일도를 향상시킬 수 있습니다.

멤스룩스는 일반적인 반도체 리소그래피가 아닌, 3D 디퓨저 리소그래피(Diffuser Lithography) 기법을 활용하여

기존 기술로 제조 불가능했던 다양한 초정밀 3D 마이크로패턴을 니즈에 맞게 디자인할 수 있습니다.

멤스룩스가 독자적으로 보유하고 있는 반도체 기반의 마이크로전자기계시스템 (MEMS) 공정 기술은

KAIST에서 개발된 것으로, 15년이라는 시간 동안 세상에 없던 독특한 3D 미세구조 패턴을 만드는 데 사용되어왔습니다.

이러한 3D 미세 구조는 수많은 광학 부품에 전례 없는 성능을 가능케 하는 필수적인 역할을 합니다

멤스룩스는 이러한 3D 마이크로패턴 제조법을 활용하여 기존에 없던 새로운 도광판인 ‘매직 라이팅 플레이트’를 개발했습니다. 기존의 도광판은 일반적인 패턴 제조 기계 가공 또는 레이저 가공을 거쳐 제작되는 방식으로 패턴의 정밀도가 떨어져 빛의 수직 출광이 불가능하고 불투명하며 난반사로 인하여 빛이 양면에서 나온다는 한계점들이 존재하는 반면 멤스룩스 매직라이팅 플레이트는 초정밀 마이크로 패턴이 새겨져 있기에 투명 LCD, 투명 OLED 및 기존 라이팅시트보다 투명도가 높으며 빛의 단방향 수직 출광이 가능합니다.